特許

J-GLOBAL ID：200903055884380264

ステージ装置及び露光装置

発明者： 田中 慶一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-120008
公開番号（公開出願番号）：特開2005-303167
出願日： 2004年04月15日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】 基板の姿勢制御を実施する際にも安定して液浸領域を形成する。【解決手段】 基板Pを載置する載置面34Aを有する。基板Pと対向し、基板Pに供給される液体1の圧力に応じて載置面34Aと交差する方向に移動する移動装置70を備える。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板を載置する載置面を有したステージ装置であって、 前記基板と対向し、前記基板に供給される液体の圧力に応じて前記載置面と交差する方向に移動する移動装置を備えたことを特徴とするステージ装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D

Fターム (5件)：

5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CC01 ,  5F046CD01 ,  5F046DA27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット
  

審査官引用 (4件)

• リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-300277   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ, カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-142059   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-423906   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-187276   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ