特許
J-GLOBAL ID：200903086602154375
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-300277
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175438
出願日： 2004年10月14日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】露光中に基板テーブルを加速する際、焦点位置が変化する液浸リソグラフィ装置で、焦点寛容度を向上させ、且つ又はコントラスト制御を安定化する。【解決手段】液浸リソグラフィで投影系PLを浸液10から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素50が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。この浸液で発生する力を受動的に利用したり、最終要素を移動させることにより、基板上のあらゆる点で連続的に焦点を変化させて焦点寛容度を向上させる。また基板に対して投影ビームを傾斜させるなど、いくつかの方法が開示される。【選択図】図4b
請求項（抜粋）：
放射の投射ビームを供給する照明系と、
前記投射ビームの断面にパターンを付与するパターン形成手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
投射系を使用して前記基板の対象部分に前記パターン形成ビームを投射する投射系と、
前記投射系の最終要素と前記基板との間の空間に液体を少なくとも部分的に充填する液体供給システムとを備えるリソグラフィ装置であって、
前記パターン形成ビームの投射中に、前記基板に対する複数の位置で前記パターン形成ビームを集束するコントローラを有すること特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/207 H
, H01L21/30 526Z
5F046CB01
, 5F046CB25
, 5F046DA14
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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