特許

J-GLOBAL ID：200903055944043491

ウエットエッチング方法

発明者： 松本 仁史 ,  粟野 憲康 ,  水川 茂
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-142334
公開番号（公開出願番号）：特開平11-323576
出願日： 1998年05月08日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 微細パターンのウエットエッチングを可能にする。【解決手段】 ウエットエッチング処理直前の基板に大気中で紫外線を照射する。紫外線の照射により加熱された状態の基板にウエットエッチングを行う。紫外線は、エキシマランプにより発生させた、中心波長が172nmのエキシマ光とする。エキシマ光を用いると、大気中での短時間の照射により、基板表面に残る有機物質が酸化分解される。同時に、その基板がウエットエッチングに適した30〜40°Cに予熱される。

請求項（抜粋）：

ウエットエッチング処理直前の基板に、172nmの波長を主体とする紫外線を照射する工程と、紫外線の照射により加熱された状態の基板に対してウエットエッチング処理を行う工程とを包含することを特徴とするウエットエッチング方法。

IPC (4件)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/306 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  H05K 3/06 A ,  H01L 21/306 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• エッチング方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-092088   出願人：キヤノン株式会社
• 誘電体バリヤ放電ランプを使用した灰化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-032530   出願人：ウシオ電機株式会社
• 固体材料表面改質方法および固体材料表面改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-332993   出願人：学校法人東海大学, ウシオ電機株式会社
• 特開昭62-160727