特許
J-GLOBAL ID：200903056198045706

真空紫外光用合成石英ガラス、その製造方法及びこれを用いた真空紫外光用マスク基板

発明者：
堀越 秀春

堀越 秀春 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について

, 
東ソ-・エスジ-エム株式会社

東ソ-・エスジ-エム株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308420
公開番号（公開出願番号）：特開2003-112943
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】真空紫外光照射に対して優れた耐久性を有する真空紫外光用合成石英ガラス、その製造方法、及びこれを用いた真空紫外光用マスク基板を提供する。【解決の手段】波長157nmの真空紫外光に対する内部透過率が1cmあたり50%以上でありかつ、波長157nmの真空紫外光を0.1mJ/cm2のエネルギー密度で1×108ショット照射しても内部透過率の低下の割合が5%以下であることを特徴とする真空紫外光用合成石英ガラス、その製造方法及びこれを用いた真空紫外光用マスク基板を用いる。
請求項（抜粋）：
波長157nmの真空紫外光に対する内部透過率が1cmあたり50%以上でありかつ、波長157nmの真空紫外光を0.1mJ/cm2のエネルギー密度で1×108ショット照射しても内部透過率の低下が5%以下であることを特徴とする真空紫外光用合成石英ガラス。
IPC (6件)：
C03C 4/08 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00 ,  G03F 1/14
FI (9件)：
C03C 4/08 ,  C03B 8/04 D ,  C03B 8/04 L ,  C03B 8/04 M ,  C03B 8/04 P ,  C03B 20/00 F ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00 ,  G03F 1/14 B
Fターム (10件)：
2H095BA07 ,  2H095BC27 ,  4G014AH15 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC06 ,  4G062DA08 ,  4G062MM02 ,  4G062NN16
引用特許：
審査官引用 (3件)

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