紫外線用光学材料およびその製造方法

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出願人/特許権者： , ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-014223
公開番号（公開出願番号）：特開2001-146434
出願日： 2000年01月20日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】波長157nmのF2エキシマレーザーに代表される真空紫外光に対する透過率が高く、均質性、耐性に優れた合成シリカガラスを提供する。【解決手段】珪素化合物を火炎熱分解して製造されたスートを堆積させて生成した多孔質シリカ母材を加熱して得られる、実質的にOH基以外の不純物を含まず、ガラス内における仮想温度の最大と最小の差が50°C以下であり、波長157nmの紫外線の透過率が光路長10mmで60%以上である合成シリカガラスから成る紫外線用光学材料、及び、OH基含有量が1〜70ppm、Cl濃度が1ppm未満であり、金属不純物濃度は各元素が10ppb未満、それらの合計量が50ppb以下である合成シリカガラスから成る紫外線用光学材料、並びに、スート法で得られた多孔質シリカ母材を透明化するに至らない温度で第1の熱処理をした後、第1の熱処理温度よりも高い温度で第2の熱処理をおこない透明化する。

請求項（抜粋）：

高純度珪素化合物から、当該珪素化合物を火炎熱分解するスートスート法で製造されたスートを堆積させて生成した多孔質シリカ母材を加熱して得られる、実質的にOH基以外の不純物を含まず、ガラス内における仮想温度の最大と最小の差が50°C以下であり、波長157nmの紫外線の透過率が光路長10mmで60%以上である合成シリカガラスから成る紫外線用光学材料。

IPC (4件)：

C03B 20/00 , C03B 8/04 , C03C 3/06 , G02B 1/02

FI (6件)：

C03B 20/00 E , C03B 20/00 F , C03B 20/00 G , C03B 8/04 L , C03C 3/06 , G02B 1/02

Fターム (69件)：

4G014AH21 , 4G062AA04 , 4G062BB02 , 4G062CC07 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA02 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EB02 , 4G062EC01 , 4G062EC02 , 4G062ED01 , 4G062ED02 , 4G062EE01 , 4G062EE02 , 4G062EF01 , 4G062EF02 , 4G062EG01 , 4G062EG02 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ06 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062MM04 , 4G062NN16 , 4G062NN31 , 4G062NN35

引用特許：

審査官引用 (9件)

フオトマスク用石英ガラス基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-327151 出願人：旭硝子株式会社
光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-266878 出願人：東ソー株式会社
光学用合成石英ガラス材及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-210844 出願人：住友金属工業株式会社, 住金石英株式会社

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