欠陥検査装置および欠陥検査方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-220477
公開番号（公開出願番号）：特開2000-055818
出願日： 1998年08月04日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】半導体ウェハーおよび回路基板等の製品表面の欠陥の位置を求め、かつ欠陥部に関する詳細な情報を得ることが可能な欠陥検査装置を提供する。【解決手段】高速ラインセンサーCCDカメラ(1)、鏡筒(4)内に設置された高倍率の対物レンズ、画像処理ボード(23)ならびにワーク駆動装置(32)(33)(34)等で構成される欠陥部の位置を求める手段、光ファイバープローブ(15)を有する光学顕微鏡、ならびにワークおよび/または光ファイバープローブを有する光学顕微鏡を移動する手段を有し、光ファイバープローブを有する光学顕微鏡により、ワーク(40)上方から見た欠陥部表面の平面的外観の観察、欠陥部の反射特性から欠陥部を構成する物質の特定、およびワーク表面に対して垂直な方向の欠陥部の断面形状の輪郭の測定の少なくとも一つを実施する欠陥検査装置およびこの装置を用いた欠陥検査方法。

請求項（抜粋）：

ワーク表面の欠陥部を検査する装置であって、欠陥部の位置を求める手段、光ファイバープローブを有する光学顕微鏡、ならびにワークおよび/または光ファイバープローブを有する光学顕微鏡を移動する手段を有する欠陥検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , G01N 13/14

FI (2件)：

G01N 21/88 E , G01N 37/00 D

Fターム (17件)：

2G051AA51 , 2G051AA65 , 2G051AB02 , 2G051AC22 , 2G051BA08 , 2G051BA10 , 2G051BB17 , 2G051BC03 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CA11 , 2G051CB01 , 2G051CC17 , 2G051DA07 , 2G051EA14 , 2G051FA10

引用特許：

審査官引用 (5件)

反射型走査型近接場顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-308225 出願人：株式会社ニコン
特開昭59-010231
特開平4-034824

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