レーザ装置、レーザ装置の駆動方法および光断層画像撮像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-125642
公開番号（公開出願番号）：特開2009-277754
出願日： 2008年05月13日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】掃引速度の向上を図ることができ、1MHz以上の掃引レートが可能となるレーザ装置および該レーザ装置を光源とする光断層画像撮像装置を提供する。【解決手段】リング共振器を備えたレーザ装置であって、前記リング共振器は、第1の変調器、正常分散領域、第2の変調器、異常分散領域がこの順に配列され、これらの配列中に利得媒質を含む構造を備え、前記第2の変調器に対する変調信号は、前記第1の変調器に対する周期的変調信号に周期的な位相変調を重畳させた信号として、前記第1と第2の変調器の間におけるゲート遅延時間に位相変調が与えられるように構成される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

リング共振器を備えたレーザ装置であって、前記リング共振器は、第1の変調器、正常分散領域、第2の変調器、異常分散領域がこの順に配列され、これらの配列中に利得媒質を含む構造を備え、前記第2の変調器に対する変調信号は、前記第1の変調器に対する周期的変調信号に周期的な位相変調を重畳させた信号として、前記第1と第2の変調器の間におけるゲート遅延時間に位相変調が与えられるように構成されていることを特徴とするレーザ装置。

IPC (4件)：

H01S 3/106 , H01S 5/022 , A61B 10/00 , H01S 3/083

FI (4件)：

H01S3/106 , H01S5/022 , A61B10/00 E , H01S3/083

Fターム (16件)：

5F172AM08 , 5F172CC04 , 5F172EE13 , 5F172NN24 , 5F172NQ24 , 5F172NQ26 , 5F172NQ47 , 5F172NQ49 , 5F172NQ50 , 5F172NQ64 , 5F173MA10 , 5F173MC20 , 5F173ME23 , 5F173MF02 , 5F173MF23 , 5F173MF40

引用特許：

出願人引用 (1件)

レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-022075 出願人：富士通株式会社

審査官引用 (5件)

レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-022075 出願人：富士通株式会社
波長走査型ファイバレーザ光源
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-168151 出願人：サンテック株式会社
レーザパルス発振器
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-235725 出願人：日本電信電話株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

"Fourier domain mode locking(FDML):A new laser operating regime and applications for optical coheren

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