特許
J-GLOBAL ID:200903056550367263

基板表面の処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-285901
公開番号(公開出願番号):特開2000-100763
出願日: 1998年09月22日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 使用済液滴が浮遊し基板表面に再付着するのを防ぎ、また支持体との接触部における処理液の置換、排出等を容易に行えるようにして、再汚染等がなく且つ均一、良好な表面処理を行うことができる基板表面の処理装置を提供する。【解決手段】 少なくとも、基板を水平に保持する支持体と、該基板を保持した支持体を回転させる回転体と、該回転体を回転させる回転駆動機構と、処理液を基板表面に噴射する噴射手段と、処理室内へのガス供給手段と、及び排気手段とを有する基板表面の処理装置において、前記支持体を筒状又は円錐台状の回転体の上端面に設けたことを特徴とする基板表面の処理装置。
請求項(抜粋):
少なくとも、基板を水平に保持する支持体と、該基板を保持した支持体を回転させる回転体と、該回転体を回転させる回転駆動機構と、処理液を基板表面に噴射する噴射手段と、処理室内へのガス供給手段と、及び排気手段とを有する基板表面の処理装置において、前記支持体を筒状又は円錐台状の回転体の上端面に設けたことを特徴とする基板表面の処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12
FI (3件):
H01L 21/304 643 D ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/12 Z
Fターム (16件):
3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB53 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201BB99 ,  3B201CB12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11 ,  3B201CD36
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • ワークの処理方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-213385   出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
  • ウエハ支持用回転テーブル
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-257357   出願人:株式会社東芝
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-278049   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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