特許
J-GLOBAL ID：200903056614046121

有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法

発明者：
井 上 直 史

井 上 直 史 について


出願人/特許権者：
井 上 直 史

井 上 直 史 について


代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001952
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208480
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：
【要約】【課題】 有機ELディスプレイパネルにおける必要な蒸着区割と蒸着マスクの位置ずれによる発光層の不均一を抑制し、高精細化を図った発光素子を提供する。【解決手段】 本発明のEL素子の製法は、(a)基板上に第1電極、絶縁層を順次積層形成した後に、所定部位を開口してなるマスクを、該絶縁層上部に、密着または近接して配置し、(b)電子線ビームをマスク上部より照射して、マスクの開口部に対応する位置に第1の区画から絶縁層を除去し、(c)マスクをそのままにして第1の有機エレクトロルミネッセンス媒体を堆積させ、絶縁層の除去された前記第1の区画において露出する第1電極上に第1の色の発光層を形成し、(d)同様にマスクを該絶縁層上部に、密着または近接して配置するが、マスクの開口部の位置は第2の区画を露出させる位置にマスクを配置する工程、さらに(b)、(c)工程を繰り返して発光層を形成し第1電極上に各色の発光層を形成する工程を有する。
請求項（抜粋）：
複数色の発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、該素子における発光層の形成が、(a)基板上に第1電極、絶縁層を順次積層形成した後に、所定部位を開口してなるマスクを、該絶縁層上部に、密着または近接して配置し、(b)光ないし電子線ビームをマスク上部より照射して、マスクの開口部の位置する第1の区画において、絶縁層を除去し、(c)さらに、マスクを同位置に保持した状態で、第1の有機エレクトロルミネッセンス媒体を堆積させて、絶縁層の除去された前記第1の区画において露出する前記第1電極上に第1の色の発光層を形成し、次いで、(d)上記と同様にマスクを該絶縁層上部に、密着または近接して配置するが、マスクの開口部の位置は第2の区画を露出させる位置として、上記(b)、(c)工程と同様な処理を行って、該第2の区画において第1電極上に第2の色の発光層を形成し、(e)その後、さらに所期の色数の発光層が形成されるまで、マスクの開口部により露出される位置を移動させながら、上記(b)、(c)工程と同様な処理を逐次繰り返して残りの各区画においても、第1電極上に各色の発光層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (5件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (5件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 Z
Fターム (22件)：
3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  5G435AA03 ,  5G435AA04 ,  5G435AA14 ,  5G435AA16 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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