特許
J-GLOBAL ID：200903056847100797
排気経路におけるパウダ生成を防止できる原子層蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-379795
公開番号（公開出願番号）：特開2004-183096
出願日： 2003年11月10日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】 排気経路におけるパウダ生成を防止できる原子層蒸着装置(ALD)を提供する。【解決手段】 少なくとも2種の反応物質を使用するALD過程がウェーハ上で行われる反応部と、反応物質を交互に反応部に各々供給する反応物質供給部と、ALD過程に加わって残った未反応の反応物質各々が排気中に相互独立的に反応部から排気させるために反応物質の種類と同数導入される排気経路、未反応の反応物質各々が所定の排気経路にだけ排気されるように排気経路各々を排気される前記未反応の反応物質の種類によって選択的に断続させる排気制御弁を含んで構成されるALD装置。これにより、ALD過程に使われる色々な反応物質が断続的に反応部から排気されるとき、排気経路内で異なる反応物質が接触することを効果的に防止できる。これにより、排気経路内で異なる反応物質が接触して反応し、パウダまたは固相の沈積物が生成することを防止できる。排気経路内でパウダの発生が効果的に防止できるので、排気経路を管理するのにかかる手間を大きく節減できる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
少なくとも2種の反応物質を使用する原子層蒸着過程がウェーハ上で行われる反応部と、
該反応物質を交互に該反応部に各々供給する反応物質供給部と、
該原子層蒸着過程で残った未反応の該反応物質各々を排気中に、相互独立的に該反応部から排気させるために該反応物質の種類の数と同数導入される排気経路と、
該未反応の反応物質各々が所定の排気経路にだけ排気されるように該排気経路各々を排気される該未反応の反応物質の種類によって選択的に断続させる排気制御弁と、を含むことを特徴とする原子層蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C14/54
, C23C14/24
, H01L21/205
C23C14/54 B
, C23C14/24 M
, C23C14/24 Z
, H01L21/205
4K029DA02
, 4K029DA09
, 4K029DA10
, 5F045AA05
, 5F045AA15
, 5F045BB15
, 5F045EG01
, 5F045EG08
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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