特許
J-GLOBAL ID：200903056880432320
エッチング用ガスおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-237481
公開番号（公開出願番号）：特開平10-087301
出願日： 1996年09月09日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：
【要約】【課題】 電子デバイス製造分野において有用なドライエッチング用ガス、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 水分含有量が1重量ppm 以下であって、かつヨウ化水素濃度99.9重量%以上のガスからなるものである。また、その製法としては、ヨウ素の水素化反応により生成した粗ヨウ化水素ガスを0〜-35°Cに冷却し、生じた凝縮物および/または固化物をガスより除去した後、ゼオライトと接触させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
水分含有量が1重量ppm 以下であって、かつヨウ化水素濃度99.9重量%以上のガスからなることを特徴とするエッチング用ガス。
IPC (3件)：
C01B 7/13
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
C01B 7/13
, C23F 4/00 E
, H01L 21/302 F
