特許
J-GLOBAL ID：200903057101244331

レジスト用ポリマー及び感放射線性レジスト組成物

発明者：
山岸 孝則

山岸 孝則 について

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水野 和彦

水野 和彦 について

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土屋 満智子

土屋 満智子 について

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大森 秀樹

大森 秀樹 について


出願人/特許権者：
丸善石油化学株式会社

丸善石油化学株式会社 について


代理人 (1件)： 小野 信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-309288
公開番号（公開出願番号）：特開2004-143281
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】レジスト用ポリマー中に含まれる極微小の難溶解性物質の生成そのものを抑制することにより、経時保存時の異物の成長及び析出を防止し、保存安定性に優れ、かつ、極微細なパターン形成に好適なレジスト用ポリマーおよびレジスト組成物を提供すること。【解決手段】エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であるか、5量体以上の重合体不純物が0.01質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマーおよびこのレジスト用ポリマーと、放射線照射により酸を発生する感放射線酸発生剤を含んでなる感放射線性レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマー。
IPC (3件)：
C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (3件)：
C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (23件)：
2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC22P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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