レジスト用ポリマー及び感放射線性レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-309288
公開番号（公開出願番号）：特開2004-143281
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】レジスト用ポリマー中に含まれる極微小の難溶解性物質の生成そのものを抑制することにより、経時保存時の異物の成長及び析出を防止し、保存安定性に優れ、かつ、極微細なパターン形成に好適なレジスト用ポリマーおよびレジスト組成物を提供すること。【解決手段】エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であるか、5量体以上の重合体不純物が0.01質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマーおよびこのレジスト用ポリマーと、放射線照射により酸を発生する感放射線酸発生剤を含んでなる感放射線性レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマー。

IPC (3件)：

C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3件)：

C08F220/28 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC22P , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-073000 出願人：JSR株式会社
環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-323373 出願人：ダイセル化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-092325 出願人：市村國宏, 有限会社日本ケミックス, 住友化学工業株式会社

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