特許
J-GLOBAL ID:200903057104528926

接触構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-337836
公開番号(公開出願番号):特開2007-173810
出願日: 2006年12月15日
公開日(公表日): 2007年07月05日
要約:
【課題】ジェットプリンティングにより形成される接触構造を提供する。【解決手段】接触構造100は、接触部位101および接触エレメント102を含む。接触部位101は、導電トレース、接触パッド、もしくはそのほかの、電子デバイスに対する接続を可能にする。接触部位101は、基板103上に形成する。基板103は、ガラス、セラミクス、プリント回路基板、もしくはそのほかの、電子デバイスのマウントに適した基板とすることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
接触部位と、 前記接触部位上に配置される複数の接触エレメントを有し、少なくとも1つの前記接触エレメントが変形可能な核を含み、前記変形可能な核の少なくとも一部を導電層が覆う接触構造。
IPC (1件):
H01L 21/60
FI (1件):
H01L21/60 311Q
Fターム (5件):
5F044KK18 ,  5F044KK19 ,  5F044LL07 ,  5F044QQ03 ,  5F044QQ04
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る