低干渉光干渉計測法による層状微細構造の計測装置及び計測方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田治米登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327916
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153550
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 OCM計測において、皮膚のように表面が不均一で非平滑である試料に対しても正確な観測データを得られるようにする。また、試料の層状微細構造の経時的変化の追跡や3次元的解析も可能とする。【解決手段】低干渉光干渉計測法の計測装置1において、試料Sに低コヒーレンス光を入射させるプローブ5の先端部を、外装3Yのない心線3X状の光ファイバー3から構成し、プローブ5と試料Sとの密着性を向上させる。また、計測装置1には、Z軸方向に移動可能な試料台41を設け、プローブ5はx軸、y軸及びZ軸方向に移動可能なアーム42に取り付ける。プローブ5には測定部位の拡大像を撮る撮像装置20を一体化させることが好ましい。

請求項（抜粋）：

低コヒーレンス光を試料及び参照鏡にそれぞれ入射させ、試料からの反射光又は散乱光と、参照鏡からの反射光又は散乱光との干渉信号を計測する低干渉光干渉計測法により試料の層状微細構造を計測する装置であって、試料に低コヒーレンス光を入射させるプローブが光ファイバーからなり、該プローブの先端部において光ファイバーは外装のない心線になっていることを特徴とする計測装置。

IPC (2件)：

G01N 21/45 , G01B 11/24

FI (2件)：

G01N 21/45 A , G01B 11/24 D

引用特許：

審査官引用 (7件)

断層情報読取方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-143362 出願人：富士写真フイルム株式会社
生体光計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-063061 出願人：株式会社日立製作所, 学校法人東海大学
特開昭57-040633

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