特許
J-GLOBAL ID：200903057159069220

紫外光照射装置及び照射方法、基板製造装置及び基板製造方法

発明者：
石川 茂幸

石川 茂幸 について

, 
荻本 眞一

荻本 眞一 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 塩川 修治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-019823
公開番号（公開出願番号）：特開2006-235617
出願日： 2006年01月27日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：
【課題】 2枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させるに際し、無駄なエネルギの消費をなくすこと。【解決手段】 2枚の基板1を貼り合わせたシール剤2に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置10において、塗布されたシール材に対する紫外光の照射手段20として、紫外光の発光ダイオードを用いる紫外光照射装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
2枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、 紫外光の照射手段として、紫外光の発光ダイオードを用いることを特徴とする紫外光照射装置。
IPC (3件)：
G02F 1/133 ,  G02F 1/13 ,  G09F 9/00
FI (3件)：
G02F1/1339 505 ,  G02F1/13 101 ,  G09F9/00 343
Fターム (23件)：
2H088FA01 ,  2H088FA03 ,  2H088FA04 ,  2H088FA10 ,  2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H089NA24 ,  2H089NA37 ,  2H089NA38 ,  2H089NA39 ,  2H089NA43 ,  2H089NA44 ,  2H089NA45 ,  2H089NA60 ,  2H089QA16 ,  2H089TA01 ,  5G435AA06 ,  5G435BB12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
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