測定装置、測定システムおよび測定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：原謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409507
公開番号（公開出願番号）：特開2005-106797
出願日： 2003年12月08日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】物体の表面の変位または凹凸を、高精度で測定する測定装置を提供する。【解決手段】物体の測定面Xからの反射光をハーフミラーBS2によって二光束に分けて、ピンホールA1を介したフォトダイオードPD1・ピンホールA2を介したフォトダイオードPD2にて光量を測定する。ハーフミラーBS2の手前に配置した接眼レンズL1の焦点距離f1よりも遠い位置にピンホールA1を配置し、焦点距離f1よりも近い位置にピンホールA2を配置しているので、フォトダイオードPD1・PD2の受光量S1・S2は、測定面Xの変位に応じてそれぞれ増減または減増する。変位に応じた受光量S1-S2の変化を予め計測しておくことによって、受光量S1・S2に応じて、測定面Xの変位を高精度に得ることができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

物体の被測定面からの反射光を検出することによって上記物体の上記被測定面の変位を測定する測定装置において、上記反射光を、第1光路とその第1光路とは異なる第2光路とに分配する分配器と、上記分配器から第1光路を介した上記反射光を検出する第1光学素子と、上記分配器から第2光路を介した上記反射光を検出する第2光学素子と、上記物体の上記被測定面の変位に伴う上記物体からの上記反射光の変化に応じて、上記第1光学素子に入射する光量を変化させるとともに、上記第1光学素子とは異なるように上記第2光学素子に入射する光量を変化させる光量変化手段とを備えていることを特徴とする測定装置。

IPC (1件)：

G01B11/00

FI (1件)：

G01B11/00 B

Fターム (13件)：

2F065AA02 , 2F065AA50 , 2F065DD06 , 2F065FF10 , 2F065FF44 , 2F065GG04 , 2F065HH13 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065JJ18 , 2F065LL00 , 2F065LL30 , 2F065QQ03

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平1-113605号公報(公開日:1989年5月2日)
立体形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-235239 出願人：興和株式会社

審査官引用 (6件)

光学式変位センサ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-299540 出願人：株式会社リコー
特開平4-296610
特開昭61-292004

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