特許

J-GLOBAL ID：200903057563320874

ウェット式洗浄装置

発明者： 長田 達弥 ,  梶本 誠 ,  田中 智也 ,  堀 憲治 ,  遠藤 光弘
出願人/特許権者： 三菱マテリアルシリコン株式会社 ,  三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-287372
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116811
出願日： 1996年10月09日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】 薬液の濃度を常に一定範囲に保ったウェット式洗浄装置を提供する。オーバフローした薬液を再利用可能とする。【解決手段】 洗浄槽11,12でオーバフローした薬液をポンプ17で循環させて使用する。その際、フィルタ18でごみ・パーティクルを除去する。薬液槽11,12の薬液濃度を濃度測定器21でモニタし、濃度変化が生じると、バルブ13,15を開閉して新液を供給して薬液濃度を一定値に保持する。濃度制御した薬液を、下流側の洗浄槽11から上流側の洗浄槽12に供給することもできる。よって、洗浄装置での薬液の変成を回避できる。常に一定の洗浄効果を得られる。薬液を再使用できる。

請求項（抜粋）：

薬液が注入された薬液槽を有するウェット式洗浄装置において、上記薬液槽内の薬液の濃度を一定範囲に保持する保持手段を有するウェット式洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-056424   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロンエフイー株式会社
• ワーク洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172223   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-151637   出願人：スピードファムクリーンシステム株式会社