特許
J-GLOBAL ID:200903057577970995

水処理方法及び水処理用装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森 浩之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-067878
公開番号(公開出願番号):特開2000-254650
出願日: 1999年03月15日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 従来の過酸化水素による水処理では殺菌力が不十分であったり、アルカリ雰囲気下で過酸化水素が生成するため、不純物として含まれる金属イオンが金属水酸化物として陰極表面に析出して有効面積が減少したりする。【解決手段】 陰極6に酸素含有ガスを供給して過酸化水素を生成させ、かつ陽極5に酸溶液添加口4から無機酸を供給して次亜塩素酸等の酸化生成物を生成させて、前記両化合物により被処理液の処理を行う。これにより殺菌力が向上するとともに共存する酸化生成物の酸性により陰極表面近傍も中性から酸性に維持されて金属水酸化物の析出が抑制される。
請求項(抜粋):
陰極に酸素含有ガスを供給しながら酸を含む被処理液に通電し、生成する過酸化水素及び酸化生成物により前記被処理液を電気化学的に処理することを特徴とする水処理方法。
IPC (15件):
C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/26 ,  C25B 1/30 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/06 ,  C25B 15/08 302
FI (16件):
C02F 1/46 ZAB Z ,  C02F 1/42 H ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 531 Q ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/76 A ,  C02F 1/78 ,  C25B 1/26 C ,  C25B 1/30 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/06 Z ,  C25B 15/08 302
Fターム (66件):
4D025AA09 ,  4D025AB03 ,  4D025BA08 ,  4D025BA17 ,  4D025DA06 ,  4D050AA02 ,  4D050AA04 ,  4D050AA15 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BB06 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BC10 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4D050CA08 ,  4D050CA10 ,  4D050CA13 ,  4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DA09 ,  4D061DB01 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC06 ,  4D061EA02 ,  4D061EB13 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED20 ,  4D061FA08 ,  4D061GC14 ,  4K011AA12 ,  4K011AA16 ,  4K011AA21 ,  4K011AA23 ,  4K011AA29 ,  4K011AA30 ,  4K011AA65 ,  4K011BA04 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K011DA05 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB07 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021BA05 ,  4K021BB03 ,  4K021BC09 ,  4K021CA01 ,  4K021CA09 ,  4K021DA13 ,  4K021DB12 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB31 ,  4K021DC07
引用特許:
審査官引用 (9件)
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