特許
J-GLOBAL ID：200903057716580242

微粒子配列体の製造方法

発明者：
布施 晃広

布施 晃広 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365120
公開番号（公開出願番号）：特開2003-165099
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：
【要約】【課題】 微粒子を精度よく規則的に配置する技術を提供する。【解決手段】 紫外線の照射によりフォトアブレーション現象を発現し得る材料を下地層2として基材1上に形成し、下地層2に紫外線ビームを照射して微粒子が嵌まり込む多数の孔5を形成した後、微粒子浮遊液体6を下地層2表面に撒布し、個々の孔5に微粒子を嵌め込む。
請求項（抜粋）：
紫外線の照射によりフォトアブレーション現象を発現し得る材料を下地層として基材上に形成する工程と、下地層に紫外線ビームを照射して微粒子が嵌まり込む多数の孔を形成する工程と、微粒子を浮遊させた状態の液体を下地層表面に撒布して前記の孔に微粒子を嵌め込む工程とを順次行なうことを特徴とする微粒子配列体の製造方法。
IPC (5件)：
B81C 5/00 ,  B01J 19/12 ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (7件)：
B81C 5/00 ,  B01J 19/12 C ,  B01J 19/12 F ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 Z
Fターム (18件)：
2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA05 ,  2H047PA06 ,  2H047QA02 ,  2H047RA08 ,  2H047TA41 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075BD16 ,  4G075CA33 ,  4G075DA13 ,  4G075EB32 ,  4G075FA02 ,  4G075FA05 ,  4G075FA12 ,  4G075FB12 ,  4G075FC13
引用特許：
審査官引用 (5件)
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