小型マイクロ波ダウンストリーム・プラズマ・システム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-503691
公開番号（公開出願番号）：特表2001-510938
出願日： 1998年07月14日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】現況技術の処理能力を提供しながらこれらの費用を削減する、より費用効率の良いシステムおよびツールを提供する。【解決手段】小型マイクロ波ダウンストリーム・プラズマ・システムは、かなり小さな携帯可能なハウジング・ユニット内に、電源、マイクロ波発生器、非線形導波路、サーキュレータ、疑似負荷、プラズマ・アプリケータ、および点火装置を含む。マイクロ波発生器は、導波路を介してアプリケータにマイクロ波を供給する。導波路は、さらに小型の設計を可能にする複数の湾曲領域を含む。アプリケータは、プラズマを発生させ、またプロセス反応器内でウエハからフォトレジスト層を除去するために使用することができる反応物質を出力するように構成される。

請求項（抜粋）：

ダウンストリーム・プロセス反応器とともに使用するプラズマ発生装置であって、マイクロ波エネルギーを出力するように構成された発生器と、第1端部および第2端部を有する導波路であり、第1端部が発生器に結合され、発生器から出力されたマイクロ波エネルギーの少なくとも一部分を第1端部から第2端部に向けて送るように構成され、さらに第1端部と第2端部の間に少なくとも1つの湾曲領域を含む導波路と、導波路の第2端部に結合され、導波路によって第1端部からそのアプリケータに向けて送られたマイクロ波エネルギーの少なくとも一部分を使用してその中でプラズマを発生するように構成されたアプリケータとを含む装置。

IPC (2件)：

H05H 1/46 , H01L 21/3065

FI (2件)：

H05H 1/46 B , H01L 21/302 H

Fターム (9件)：

5F004BA20 , 5F004BB02 , 5F004BB05 , 5F004BB11 , 5F004BB14 , 5F004BB29 , 5F004CA03 , 5F004DA26 , 5F004DB26

引用特許：

審査官引用 (8件)

成膜装置及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-329857 出願人：東京エレクトロン株式会社, 富士電機株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-187369 出願人：日本電信電話株式会社
特開昭64-071099

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