特許
J-GLOBAL ID:200903057766912734
半導体装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
速水 進治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-155066
公開番号(公開出願番号):特開2005-012199
出願日: 2004年05月25日
公開日(公表日): 2005年01月13日
要約:
【課題】半導体素子に加えて受動素子が内蔵されてなる半導体パッケージにおいて、スペース効率の高い半導体パッケージの製造方法を提供する。【解決手段】受動素子24を内蔵する半導体パッケージにおいて、基板20上に予め実装された受動素子を研磨して肉薄化すると共に、上面の高さばらつきを抑制した後、受動素子研磨面上に半導体素子22を搭載する半導体装置の製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板と、
前記基板上に実装される受動素子と、
前記受動素子の表面に積層される半導体素子と、を含む
半導体装置。
IPC (4件):
H01L25/00
, H01L25/065
, H01L25/07
, H01L25/18
FI (2件):
H01L25/00 B
, H01L25/08 Z
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特公2000-12769号公報
-
特公平8-162608号公報
審査官引用 (13件)
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