特許
J-GLOBAL ID：200903057870819886

投影露光装置

発明者：
水谷 英夫

水谷 英夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-333985
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153452
出願日： 1995年11月29日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：
【要約】【課題】 マスクステージ位置検出系と基板ステージ位置検出系との間のオフセットドリフトの発生を抑えて、マスクと基板との高精度な位置合わせが可能な投影露光装置。【解決手段】 投影露光装置において、マスクステージ位置検出系は、第1基準マークと、マスクステージに形成されたマスクステージマークとに基づいてマスクステージの位置を検出し、基板ステージ位置検出系は、第1基準マークと一体的に保持された第2基準マークと、基板ステージに形成された基板ステージマークとに基づいて、基板ステージの位置を検出する。
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成されたマスクを露光光で照明するための照明光学系と、前記マスクに形成された前記所定のパターンの像を感光性の基板上に形成するための投影光学系と、前記マスクを保持したマスクステージの位置を検出するためのマスクステージ位置検出系と、前記基板を保持した基板ステージの位置を検出するための基板ステージ位置検出系とを備えた投影露光装置において、前記マスクステージ位置検出系は、第1基準マークと、前記マスクステージに形成されたマスクステージマークとに基づいて前記マスクステージの位置を検出し、前記基板ステージ位置検出系は、前記第1基準マークと一体的に保持された第2基準マークと、前記基板ステージに形成された基板ステージマークとに基づいて、前記基板ステージの位置を検出することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (4件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 D
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM