特許

J-GLOBAL ID：200903057938301090

欠陥検査装置およびその方法

発明者： 浜松 玲 ,  野口 稔 ,  大島 良正 ,  西山 英利 ,  渡邉 哲也
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-056547
公開番号（公開出願番号）：特開2002-257533
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物(例えば、半導体基板上の絶縁膜)に対してCMPなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】 本発明は、研磨または研削された絶縁膜の表面に発生したスクラッチや異物に対してほぼ同じ光束で落射照明と斜方照明とを行い、該落射照明時と斜方照明時との間において浅いスクラッチと異物とから発生する散乱光強度の比率等の相関関係に基いて浅いスクラッチと異物とを弁別しすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被検査物を載置するステージと、該ステージ上に載置された被検査物の表面上の個所に該表面に対して法線方向若しくはその近傍方向からUV光若しくはDUV光からなる照明光を所望の光束で落射照明する落射照明系と前記被検査物の表面上の個所にUV光若しくはDUV光からなる照明光を所望の光束で斜方照明する斜方照明系とを有する照明光学系と、該照明光学系の落射照明系によって落射照明された個所から発生する第1の反射光の内前記被検査物の表面に対して高角度に向かう第1の高角度散乱光および前記照明光学系の斜方照明系によって斜方照明された個所から発生する第2の反射光の内前記高角度に向かう第2の高角度散乱光を集光して結像する高角度結像光学系と該高角度結像光学系で結像された第1および第2の高角度散乱光を受光して第1および第2の輝度信号に変換する光電変換手段とを有する検出光学系と、該検出光学系の光電変換手段で変換された第1の輝度信号と第2の輝度信号との間の相関関係に基いて前記被検査物上の欠陥を凹状欠陥と凸状欠陥とに弁別する比較判定部とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (5件)：

G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 7/60 150 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 7/60 150 J ,  H01L 21/66 J

Fターム (87件)：

2F065AA49 ,  2F065AA61 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065GG05 ,  2F065GG23 ,  2F065HH03 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065NN16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ41 ,  2F065RR06 ,  2F065SS01 ,  2F065SS13 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB03 ,  2G051BB07 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051EC06 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA38 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB19 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC34 ,  5L096BA03 ,  5L096CA14 ,  5L096FA14 ,  5L096FA59 ,  5L096HA01 ,  5L096JA11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 表面検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-345736   出願人：株式会社トプコン
• 表面の光学的検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-249981   出願人：ホロジェニックスインコーポレイテッド, 山下電装株式会社
• 欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-061040   出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• 欠陥検査装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-206078   出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社