特許

J-GLOBAL ID：200903057953629035

アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法

発明者： 西村 茂樹 ,  森 良弘 ,  林 徳之
出願人/特許権者： シルトロニック・ジャパン株式会社
代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-278064
公開番号（公開出願番号）：特開2006-093453
出願日： 2004年09月24日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：

【課題】半導体ウェーハのアルカリエッチングのための新規なアルカリエッチング液およびアルカリエッチング方法を提供する。【解決手段】アルカリ水溶液に多価アルコールを含むことを特徴とするアルカリエッチング液。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液に多価アルコールを含むアルカリエッチング液。

IPC (1件)：

H01L 21/308

FI (1件)：

H01L21/308 B

Fターム (4件)：

5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043DD07 ,  5F043FF07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• シリコンウエーハの製造方法及びシリコンウエーハ並びにSOIウエーハ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-306689   出願人：信越半導体株式会社, 長野電子工業株式会社
• シリコンウェーハのエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-209230   出願人：三菱住友シリコン株式会社

審査官引用 (3件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-159004   出願人：富士電機株式会社
• 特開昭53-116770
  
• シリコン表面のピラミッド形組織ウエットエッチングのための方法及びエッチング溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-073759   出願人：シーメンスソーラーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング