特許
J-GLOBAL ID：200903058018514145
多重RF周波数に応答する電極を有するプラズマプロセッサ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-515239
公開番号（公開出願番号）：特表2008-501224
出願日： 2005年05月25日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：
ワークピースを加工するプラズマプロセッサが、ワークピースを含む真空室において、3つの整合ネットワークによって電極に加えられる周波数2MHz、27MHz、および60MHzを有する源を含む。代替として、60MHzが、第4整合ネットワークによって第2電極に加えられる。整合ネットワークは、それらを駆動する源の周波数にほぼ同調され、2MHzのインダクタンスが27MHzのネットワークインダクタンスを超え、27MHzネットワークインダクタンスが60MHzのネットワークのインダクタンスを超えるように、直列インダクタンスを含む。整合ネットワークは、それらを駆動しない源の周波数を少なくとも26DBだけ減衰させる。27MHzと60MHzの源の間のシャントインダクタが、27MHzおよび60MHzから2MHzをデカップリングする。直列共振回路(約5MHzに共振する)が、2MHzの源を電極に整合させるのを補助するために、2MHzのネットワークおよび電極を分路する。
請求項（抜粋）：
ワークピースを加工するための真空プラズマプロセッサであって、
電極を含み、リアクタンスに関連付けられ、電極およびリアクタンスがプラズマ励起場を室内のガスに結合するように構成され、ワークピースを所持するように構成される真空プラズマ加工室と、
Nを少なくとも3の値を有する整数としそれぞれが異なる無線周波数を導出するように構成される無線周波数電力のNの源と、
Nの周波数における電力を無線周波数電力のNの源から電極およびリアクタンスに供給するための回路とを備え、
Nの周波数、Nの周波数のそれぞれにおける電力、電極、リアクタンス、および回路が(a)プラズマがNの周波数のそれぞれに励起され(b)特定の源の無線周波数に関連付けられた周波数以外の周波数においてNの源のそれぞれに電力を実質的に結合するのを防止するように構成され、
特定の源の無線周波数に関連付けられた周波数以外の周波数においてNの源のそれぞれに電力を実質的に結合するのを防止するために、少なくとも26DBの電力減衰が回路によって挿入されるようにNの周波数および回路が構成される。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H01J 37/32
, C23C 16/505
H05H1/46 M
, H01J37/32
, H05H1/46 R
, C23C16/505
4K030FA01
, 4K030JA18
, 4K030KA30
, 4K030LA15
