特許
J-GLOBAL ID：200903058202242719
パターン形成方法及びそれに用いるパターンコーティング組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邉 一平
, 木川 幸治
, 菅野 重慶
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-179313
公開番号（公開出願番号）：特開2009-015194
出願日： 2007年07月09日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：
【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成することができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】(1)酸の作用によりアルカリ可溶性となる(a)樹脂、及び(b)感放射線性酸発生剤を含有する第一の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に形成された第一のパターンの表面上に、パターンコーティング組成物を塗布して被覆層を形成する工程と、(2)少なくとも被覆層をベーク処理して第二のパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法であり、パターンコーティング組成物が、イソシアネート基、及び加熱によりイソシアネート基を生成する官能基の少なくともいずれかを有する(A)化合物と、(B)溶剤とを含有するものである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(1)酸の作用によりアルカリ可溶性となる(a)樹脂、及び(b)感放射線性酸発生剤を含有する第一の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に形成された第一のパターンの表面上に、パターンコーティング組成物を塗布して被覆層を形成する工程と、
(2)少なくとも前記被覆層をベーク処理して第二のパターンを形成する工程と、を有し、
前記パターンコーティング組成物が、イソシアネート基、及び加熱によりイソシアネート基を生成する官能基の少なくともいずれかを有する(A)化合物と、(B)溶剤と、を含有するものであるパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/40 502
, H01L21/30 502R
2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096EA05
, 2H096EA23
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA02
, 2H096JA04
出願人引用 (2件)
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ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-060955
出願人：日本電信電話株式会社
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液浸型露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-121757
出願人：株式会社ニコン
審査官引用 (3件)
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