特許
J-GLOBAL ID:200903058361730864

低抵抗膜又は低屈折率膜形成用塗布液、及び、低抵抗膜又は低反射低屈折率膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-192356
公開番号(公開出願番号):特開平10-036975
出願日: 1996年07月22日
公開日(公表日): 1998年02月10日
要約:
【要約】【課題】低温熱処理により、着色がなく透明で導電性に優れた高性能な低抵抗膜を形成できる塗布液の提供。【解決手段】平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液。
請求項(抜粋):
平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液。
IPC (5件):
C23C 18/42 ,  C23C 18/31 ,  H01J 9/20 ,  H01J 29/88 ,  H04N 5/72
FI (5件):
C23C 18/42 ,  C23C 18/31 A ,  H01J 9/20 A ,  H01J 29/88 ,  H04N 5/72 Z
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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