特許
J-GLOBAL ID:200903058522133209

蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-043065
公開番号(公開出願番号):特開平10-092313
出願日: 1997年02月27日
公開日(公表日): 1998年04月10日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度でパターンを形成で蛍光体パターンの製造法、感光性エレメント、蛍光体パターン並びにこれを備えたプラズマディスプレイパネル用背面板を提供する。【解決手段】 (I)凹凸を有する基板上において蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に埋め込み層を配置した状態で、埋め込み層に圧力を加えて、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び埋め込み層を基板上に積層する工程、(II)埋め込み層を除去する工程、(III)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(IV)現像により活性光線を像的に照射した蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び(V)前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程を含む。
請求項(抜粋):
(I)凹凸を有する基板上において(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に(B)埋め込み層を配置した状態で、(B)埋め込み層に圧力を加えて、(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び(B)埋め込み層を凹凸を有する基板上に積層する工程、(II)(B)埋め込み層を除去する工程、(III)(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(IV)現像により活性光線を像的に照射した(A)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び(V)前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造法。
IPC (5件):
H01J 9/227 ,  B32B 7/02 103 ,  C09K 11/08 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/004 505
FI (5件):
H01J 9/227 C ,  B32B 7/02 103 ,  C09K 11/08 J ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/004 505
引用特許:
審査官引用 (3件)

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