ポジ型フォトレジスト材料

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-305048
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127690
出願日： 1995年10月30日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と、感光剤とを含有してなるポジ型フォトレジスト材料において、感光剤として下記構造式(1)及び(2)で示される化合物とを5:95〜50:50の重量比で混合した混合物の水酸基の一部又は全部を1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸化合物でエステル化することにより得られた、下記一般式(3)及び(4)で示される化合物の混合物を感光剤中90%以上含有したものを使用したことを特徴とするポジ型フォトレジスト材料。【化1】(但し、式中Rは水素原子又は1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基であるが、式(3)及び(4)において、それぞれRの少なくとも一つは1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基である。)【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、レジストパターンとして要求される感度、解像度、γ値、残膜率、焦点深度、プロファイル、耐熱性等の諸性能のバランスに優れているレジストパターンが得られるもので、集積回路作成用として好適である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と、感光剤とを含有してなるポジ型フォトレジスト材料において、感光剤として下記構造式(1)及び下記構造式(2)で示される化合物とを5:95〜50:50の重量比で混合した混合物の水酸基の一部又は全部を1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸化合物でエステル化することにより得られた、下記一般式(3)及び下記一般式(4)で示される化合物の混合物を感光剤中90%以上含有したものを使用したことを特徴とするポジ型フォトレジスト材料。【化1】【化2】(但し、式中Rは水素原子又は1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基であるが、式(3)及び(4)において、それぞれRの少なくとも一つは1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル基である。)

IPC (4件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

感電離放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-318195 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-055880 出願人：ソニー株式会社
特開昭61-218616

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