特許

J-GLOBAL ID：200903058558872482

基板の処理装置及び処理方法

発明者： 都甲 孝則 ,  松山 裕宣
出願人/特許権者： 株式会社高田工業所
代理人 (1件)： 中前 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-081966
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269517
出願日： 2005年03月22日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】 基板表面に付着又は形成した不要物を処理液で除去しながらリンス液で洗い流す際に液滴及びミストの飛散を防止して不要物を効率的に除去することが可能なコンパクト化された基板の処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】 基板11の表面の不要物を除去する基板の処理装置10は、基板11を保持して回転する回転駆動手段12と、基板11の上方に移動可能に設けられ、回転している基板11の表面に不要物を除去する処理液を噴射する噴射ノズル13と、回転している基板11の表面を洗うリンス液を供給するリンスノズル15と、基板11の上方に移動可能に設けられ、回転している基板11の表面を流れるリンス液を押し退け、リンス液が噴射ノズル13から噴射された処理液に衝突するのを防止する気体を吹き付ける気体吐出ノズル17とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板の表面に付着又は形成した不要物を除去する基板の処理装置において、 前記基板を保持して回転する回転駆動手段と、 前記基板の上方に移動可能に設けられ、回転している前記基板の表面に前記不要物を除去する処理液を噴射する噴射ノズルと、 回転している前記基板の表面を洗うリンス液を供給するリンスノズルと、 前記基板の上方に移動可能に設けられ、回転している前記基板の表面を流れるリンス液を押し退け、該リンス液が前記噴射ノズルから噴射された処理液に衝突するのを防止する気体を吹き付ける気体吐出ノズルとを有することを特徴とする基板の処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/306 N ,  B08B3/02 B ,  H01L21/304 643A

Fターム (14件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB22 ,  3B201BB87 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CD35 ,  3B201CD43 ,  5F043DD13 ,  5F043DD18 ,  5F043EE07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平01-041217号公報
  

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-054750   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• リフトオフ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-279820   出願人：松下電器産業株式会社
• ウエットエッチング装置およびウエットエッチングの方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-199432   出願人：株式会社ケミトロニクス
• 特開平1-204428