特許
J-GLOBAL ID:200903058658245957
感放射線性組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-292673
公開番号(公開出願番号):特開2002-099089
出願日: 2000年09月26日
公開日(公表日): 2002年04月05日
要約:
【要約】【課題】 電子線に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成することができる感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】(A)下記式(1)【化1】(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子またはt-ブトキシカルボニル基である。但し、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つは水素原子であり且つ少なくとも1つはt-ブトキシカルボニル基であるものとする。)で表わされる化合物および(B)放射線性照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性組成物。
請求項(抜粋):
(A)下記式(1)【化1】(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子またはt-ブトキシカルボニル基である。但しR1、R2およびR3のうち少なくとも1つは水素原子でありかつ少なくとも1つはt-ブトキシカルボニル基であるものとする。)で表される化合物、および(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039 601
, C07C 69/96
, G03F 7/004 531
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/039 601
, C07C 69/96 Z
, G03F 7/004 531
, H01L 21/30 502 R
Fターム (13件):
2H025AA03
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BF29
, 2H025BG00
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4H006AA03
, 4H006AB92
, 4H006BJ50
引用特許:
引用文献:
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