重ね合わせ誤差測定方法、重ね合わせ誤差測定装置、及び半導体デバイスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-138913
公開番号（公開出願番号）：特開2005-322748
出願日： 2004年05月07日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】対称性マッチング法を用い、簡単な処理でパターンの段差の非対称性の影響を除去して、パターンの重ね合わせ誤差を精度良く測定する。【解決手段】本発明は、対称性マッチング法において、対称性評価関数の極小値の大きさに着目し、対称性評価関数の極小値が最も小さくなるように、対称性評価関数の積算範囲を設定し、または受光系のフォーカス位置を調整する。これにより、パターンの段差の非対称性の影響が最も除去されて、検出される中心位置が真の値に近づく。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハ上に形成されたパターンの像の画像信号を検出し、画像信号の波形の仮想中心位置から左右等しい距離にある画像信号の差の二乗を積算する対称性評価関数の値を算出し、対称性評価関数の値が極小となる仮想中心位置をパターンの中心位置として検出し、パターンの中心位置のずれ量を求める重ね合わせ誤差測定方法であって、対称性評価関数の極小値が最も小さくなるように、対称性評価関数の積算範囲を設定することを特徴とする重ね合わせ誤差測定方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G01B11/00 , G06T1/00 , H01L21/66

FI (4件)：

H01L21/30 502V , G01B11/00 H , G06T1/00 305C , H01L21/66 P

Fターム (35件)：

2F065AA03 , 2F065AA14 , 2F065AA17 , 2F065AA20 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065FF41 , 2F065GG03 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL01 , 2F065LL04 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ00 , 2F065QQ25 , 2F065QQ27 , 2F065QQ29 , 2F065QQ38 , 2F065QQ42 , 4M106AA01 , 4M106CA50 , 4M106DH12 , 4M106DJ11 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA17 , 5B057DA07 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC22

引用特許：

出願人引用 (1件)

半導体集積回路パターンの位置合わせ方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-300206 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (6件)

特開昭63-147281
特開昭61-278136
特開昭61-236117

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