ポリッシング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-134433
公開番号（公開出願番号）：特開平11-309668
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】トップリング外周のガイドリングで保持されたポリッシング対象物の研磨面内に容易に砥液を導くことができ、これにより、十分な量の砥液が研磨面に供給され、安定にポリッシング対象物の表面を平坦且つ鏡面状に研磨することができるポリッシング装置を提供する。【解決手段】上面に研磨面を有するターンテーブル5とトップリング1とを有し、ターンテーブル5とトップリング1との間にポリッシング対象物4を介在させて所定の力で押圧することによってポリッシング対象物4を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、ポリッシング装置は、トップリング1の外周部にポリッシング対象物4を保持するガイドリング3を備え、ガイドリング3を親水性の材料を用いて構成した。

請求項（抜粋）：

上面に研磨面を有するターンテーブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ポリッシング装置は、前記トップリングの外周部にポリッシング対象物を保持するガイドリングを備え、該ガイドリングを親水性の材料を用いて構成したことを特徴とするポリッシング装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

半導体基板の研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-300938 出願人：ソニー株式会社
半導体ウェハの研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-229292 出願人：旭硝子株式会社
耐熱ガラス定盤
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-360365 出願人：スピードファム株式会社

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