特許
J-GLOBAL ID:200903058785176883

自在NGLプロセスおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  渡邉 千尋 ,  金山 賢教 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-538016
公開番号(公開出願番号):特表2007-510124
出願日: 2004年10月05日
公開日(公表日): 2007年04月19日
要約:
意図するプラントは吸収器を備えており、吸収器への様々な供給流の分割比を使用して、吸収器のボトム生成物を受け取る蒸留塔のボトム生成物中の所望の成分の回収が制御される。とりわけ好ましい態様では、プラントはNGLプラントであり、供給流の分割比を使用して所望のエタン回収のレベルが制御される。
請求項(抜粋):
供給ガス蒸気の第1の部分および第2の部分、供給ガス液の第1の部分および第2の部分、および蒸留塔オーバヘッドの第1の部分および第2の部分をそれぞれ個別に受け取るように構成され、供給ガス蒸気の第1の部分および蒸留塔オーバヘッドの第1の部分によって還流が提供される吸収器と、 供給ガス蒸気の第1の部分と第2の部分、供給ガス液の第1の部分と第2の部分、および蒸留塔オーバヘッドの第1の部分と第2の部分のうちの少なくとも1つの比率を蒸留塔のボトム生成物中の供給ガス成分の所望の回収率に応じて制御する制御ユニットとを備えたプラント。
IPC (3件):
F25J 3/02 ,  F25J 1/00 ,  C10L 3/06
FI (3件):
F25J3/02 B ,  F25J1/00 B ,  C10L3/00 A
Fターム (11件):
4D047AA10 ,  4D047AB08 ,  4D047BA06 ,  4D047CA03 ,  4D047CA12 ,  4D047CA17 ,  4D047DA01 ,  4D047DA04 ,  4D047DA12 ,  4D047DB05 ,  4D047EA03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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