特許

J-GLOBAL ID：200903058811404180

露光装置

発明者： 中村 綾子 ,  中川 正弘
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158372
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340132
出願日： 1998年05月22日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】アライメントマークの位置を高精度に検出して、微細な線幅に対応できる露光装置を提供する。【解決手段】投影原版上に設けられたパターンを感光性基板W上に投影する投影光学系30を備えた露光装置であって、感光性基板W上に設けられた位置検出用パターンに対して所定波長のアライメント光を供給するための照明光学系3〜8と、アライメント光により照明された位置検出用パターンからのアライメント光を受光可能な位置に設けられた対物レンズ系2と、少なくとも1つの光束偏向手段18とを有する集光光学系10〜15と、集光光学系10〜15を介したアライメント光を光電変換するための光電変換手段40とを備え、対物レンズ系2の感光性基板W側の開口数をNAWとするとき、0.35≦NAW≦0.85を満足する。

請求項（抜粋）：

投影原版上に設けられたパターンを感光性基板上に投影する投影光学系を備えた露光装置において、前記感光性基板上に設けられた位置検出用パターンに対して所定波長のアライメント光を供給するための照明光学系と、前記アライメント光により照明された位置検出用パターンからのアライメント光を受光可能な位置に設けられた対物レンズ系と、少なくとも1つの光束偏向手段とを有する集光光学系と、該集光光学系を介したアライメント光を光電変換するための光電変換手段と、を備え、前記対物レンズ系の前記感光性基板側の開口数をNAWとするとき、0.35≦NAW≦0.85を満足することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 W ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 507 R ,  H01L 21/30 507 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-222677   出願人：株式会社ニコン
• 収差補正光学系及び該光学系を用いた位置合わせ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-003856   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びそれを用いた半導体チップの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-179927   出願人：キヤノン株式会社
• 位置検出装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-100705   出願人：株式会社ニコン