特許

J-GLOBAL ID：200903058906975665

ゾル-ゲル法を用いて強誘電性薄膜を製造する方法

発明者： ディルク・ウォウテルス ,  ヘルト・ノルガ ,  ヘルマン・メース ,  リア・ヌーウェン ,  ユレス・ムレンス ,  ディルク・フランコ ,  ヤン・イペルマン ,  ルシーン・セー・ファン・プーケ
出願人/特許権者： アンテルユニヴェルシテール・ミクロ-エレクトロニカ・サントリュム・ヴェー・ゼッド・ドゥブルヴェ ,  リムブルフス・ウニフェルジテール・セントルム
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-048256
公開番号（公開出願番号）：特開2000-154008
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】 ゾル-ゲル法に基づくマルチコーティングプロセスを用いる強誘電性の膜の形成方法、特にアルコキシド型の液体PZT前駆体溶液、特にPb(ZrXTi1-X)O3前駆体溶液の高品質のPZT薄膜の製造方法を開示する。【解決手段】 少なくとも2つの被覆層を付着するが、被覆層数は強誘電性の膜厚に依存する。本発明の方法では、形成される膜の電気的特性は、被覆層数に依存しない。本発明の方法は、マルチコーティングプロセスを含んで成り、被覆層の数を減じられるが、中間の結晶化工程は実施される。最後の結晶化工程以来形成される膜の厚さが最小でも約40〜50nmの場合に、結晶化工程を行うと、形成される強誘電性の膜は優秀な電気的特性を有する。別法では、中間の結晶化工程を用いないマルチコーティングプロセスを含んで成る。

請求項（抜粋）：

a)ゾル-ゲル法を用いて、PZT前駆体溶液の強誘電性の層を基材上に付着する工程;b)熱処理を用いて、該層内の溶媒の少なくとも大部分を蒸発させる工程;c)熱分解する工程を含んで成る、該基材上に50nm〜350nmの範囲の厚さを有する強誘電性の膜を形成する方法であって、a)、b)及びc)の工程のシーケンスは、該強誘電性の膜から成る複数の強誘電性の層を形成するために少なくとも2回実施し、該複数の強誘電性の層の各々の厚さは50nm以下であり、その後、結晶化工程を行い、該厚さの範囲内においてバラツキが30%以下の残留分極を有する該強誘電性の膜を得る方法。

IPC (5件)：

C01B 25/00 ,  H01L 21/316 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (4件)：

C01B 25/00 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/10 651

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ゾルーゲル法による強誘電体膜の形成方法、キャパシタの製造方法、その原料溶液の調製方法及びその原料溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-069114   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 株式会社トリケミカル研究所
• ゾルーゲル法による強誘電体膜の形成方法及びキャパシタの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113974   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
• ゾルーゲル法による強誘電体膜の形成方法及びキャパシタの製造方法、及びその原料溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-113973   出願人：日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 株式会社トリケミカル研究所
• 特開平4-295013