特許
J-GLOBAL ID：200903058907239130
複数の周波数に同時に応答する電極を備えたプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-517690
公開番号（公開出願番号）：特表2005-536834
出願日： 2003年06月20日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
ワークピースを処理する真空チャンバ内のプラズマが、第1および第2のRF周波数の電力に同時に応答する第1の電極と第2のDC接地電極の間の領域を含むプラズマ閉込め体積によって拘束される。DC接地延長部分は、実質的に第1の電極と整列している。第1の周波数の電力のうちの実質的な割合の電力が、第1および第2の電極を含み、かつ、延長部分を含まない経路に結合され、第2の周波数の電力のうちの実質的な割合の電力が、第1の電極および延長部分を含み、かつ、第2の電極を含まない経路に結合される。第1の電極に印加する第1および第2の周波数の相対電力を変化させることにより、第1の電極のDCバイアス電圧が制御される。
請求項（抜粋）：
(a)チャンバにガスを結合するためのポート、(b)前記チャンバ内のガスに電界を印加するための第1の電極、および(c)DC基準電位にある、前記第1の電極から間隔を隔てた第2の電極を有し、前記電極間の体積を含む領域で前記ガスをプラズマに励起させるようになされた真空チャンバと、前記第1の電極に異なる周波数を有する電界を同時に前記プラズマに供給させるための回路とを備えたプラズマ処理装置であって、前記チャンバが、前記異なる周波数の電力に前記領域を通る実質的に異なる経路を取らせるようになされた構造を備えたプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H1/46
, C23C16/505
, H01J37/32
, H01L21/3065
H05H1/46 M
, C23C16/505
, H01J37/32
, H01L21/302 101B
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030JA18
, 4K030KA14
, 4K030KA30
, 5F004BA09
, 5F004BB11
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004CA03
, 5F004CA06
, 5F004CA08
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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