特許
J-GLOBAL ID:200903058943921834

塗布装置、実装装置、塗布方法、電子部品の製造方法及び電子部品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大森 純一 ,  折居 章
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-257124
公開番号(公開出願番号):特開2008-073633
出願日: 2006年09月22日
公開日(公表日): 2008年04月03日
要約:
【課題】フラックス等の処理剤をプレート上に安定的に存在させることができ、メンテナンスを減らすことができる技術を提供すること。【解決手段】押し付けブロック26より上流側で、プレート12上にフラックスFが供給される。このとき、プレート12は回転していてもよいし止まっていてもよい。回転するプレート上12の大部分のフラックスFが外周側へ移動しようとして盛り上がる。押し付けブロック26は、この盛り上がりを抑えることができる。これにより、フラックスFがプレート12外へ流出する等の問題を解決できる。【選択図】図19
請求項(抜粋):
回転可能に設けられ、ペースト状の処理剤が供給されるプレートと、 前記プレート上に隙間をあけて配置され、前記プレートの回転により前記処理剤が前記隙間を通ることで前記プレート上に前記処理剤の膜を形成する膜形成部材と、 前記膜形成部材に近接して配置され、前記プレートの回転により前記膜形成部材へ向かう前記処理剤を前記プレートに押し付ける押し付け部材と を具備することを特徴とする塗布装置。
IPC (2件):
B05C 11/04 ,  B05D 1/28
FI (2件):
B05C11/04 ,  B05D1/28
Fターム (27件):
4D075AC41 ,  4D075AC53 ,  4D075AC64 ,  4D075AC82 ,  4D075AC86 ,  4D075CA48 ,  4D075DA23 ,  4D075DB11 ,  4D075DC21 ,  4D075EA14 ,  4D075EA35 ,  4D075EA60 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AB00 ,  4F042DD02 ,  4F042DD11 ,  4F042DD18 ,  4F042DD22 ,  4F042DF28 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB29 ,  5E319AA03 ,  5E319CC22 ,  5E319CD22 ,  5E319GG03
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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