特許

J-GLOBAL ID：200903058967895800

処理装置及び被処理体の搬送方法

発明者： 田中 恵一 ,  浅尾 信介 ,  小沢 雅仁 ,  相馬 正樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-108612
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299367
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の搬送を効率良く行なうようにしてスループットを向上させるようにした、いわゆるクラスタツール型の処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wが収納されたカセットCを収容するカセット収容室30A,30Bと、前記被処理体に対して所定の処理を施す処理室26A〜26Dと、前記カセット収容部と前記処理室とを連絡する搬送室28と、前記カセット収容室と前記搬送室との間で前記被処理体の受け渡しを行なう第1の搬送手段32と、前記処理室と前記搬送室との間で前記被処理体の受け渡しを行なう第2の搬送手段34と、前記被処理体の位置合わせを行なう位置合わせ手段38とを有し、前記第1及び第2の搬送手段の搬送範囲が重なる範囲内に前記位置合わせ手段38を配置する。これにより、搬送手段の待機時間をなくして被処理体の搬送を効率良く行なうようにしてスループットを向上させる。

請求項（抜粋）：

被処理体が収納されたカセットを収容するカセット収容室と、前記被処理体に対して所定の処理を施す処理室と、前記カセット収容部と前記処理室とを連絡する搬送室と、前記カセット収容室と前記搬送室との間で前記被処理体の受け渡しを行なう第1の搬送手段と、前記処理室と前記搬送室との間で前記被処理体の受け渡しを行なう第2の搬送手段と、前記被処理体の位置合わせを行なう位置合わせ手段とを有し、前記第1及び第2の搬送手段の搬送範囲が重なる範囲内に前記位置合わせ手段を配置するようにしたことを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205

Fターム (30件)：

5F031CA02 ,  5F031DA17 ,  5F031FA11 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA37 ,  5F031GA43 ,  5F031GA49 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031MA04 ,  5F031MA09 ,  5F031MA13 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F045AA06 ,  5F045AF03 ,  5F045AF07 ,  5F045BB08 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08 ,  5F045EJ02 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK11 ,  5F045EN04 ,  5F045EN06 ,  5F045HA24

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ウエハ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-288862   出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社
• 特開平2-094647
  
• 真空搬送処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-189432   出願人：テル・バリアン株式会社
• 特開平2-094647
  
• 真空処理装置及び真空処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303129   出願人：テル・バリアン株式会社