現像液供給方法及び現像装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-351308
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173906
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】基板全面に現像液を液盛りして現像処理を均一に行う。【解決手段】スピンチャックに保持された基板Wに対向する対向面21を備えた現像液供給ノズル20と、スピンチャックに保持された基板Wとを近接させて、その間に多孔質材23を通して順次供給される現像液Qを介在させた状態で、現像液供給ノズル20と基板Wとを相対変位させて基板Wに現像液Qを供給して基板Wに現像液Qを液盛りする。

請求項（抜粋）：

基板に現像液を液盛りするために基板に現像液を供給する現像液供給方法であって、基板に対向する対向面を備えた対向部材と、基板とを近接させて、その間に現像液を介在させた状態で前記対向部材と基板とを相対変位させて基板に現像液を供給することを特徴とする現像液供給方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 F , G03F 7/30 501

Fターム (5件)：

2H096AA25 , 2H096GA30 , 5F046LA03 , 5F046LA04 , 5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-140350
特公平1-043452
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-139364 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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