特許
J-GLOBAL ID：200903059119128439

マイクロマシン及びマイクロマシンの製造方法及び空間光変調装置及び空間光変調装置の製造方法

発明者：
上島 俊司

上島 俊司 について

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米窪 政敏

米窪 政敏 について

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武田 高司

武田 高司 について

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西川 尚男

西川 尚男 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291218
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121966
出願日： 1998年10月13日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】 空間光変調装置において、高速で安定的なスイッチングを行なうと共に、精度よくスイッチング行なうため、スイッチング部エバネッセント波を安定的に抽出する。【解決手段】 駆動部上に型転写により反射面構造、及びマイクロプリズム3を形成する事により、高精度のエバネッセント波抽出のスイッチング部を形成する。
請求項（抜粋）：
可動可能な第1の構造物と、該第1の構造物上に形成される第2の構造物とからなるマイクロマシンにおいて、前記第2の構造物が、前記第1の構造物上に型転写によって形成された事を特徴とするマイクロマシン。
IPC (2件)：
G02B 26/08 ,  B62D 57/00
FI (3件)：
G02B 26/08 D ,  B62D 57/00 G ,  B62D 57/00 E
Fターム (9件)：
2H041AA04 ,  2H041AB02 ,  2H041AB12 ,  2H041AB40 ,  2H041AC06 ,  2H041AC07 ,  2H041AC08 ,  2H041AZ02 ,  2H041AZ08
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
  • マイクロマシン技術専門用語V1.0, 19981010, 初版, p.52、53
審査官引用 (1件)
  • マイクロマシン技術専門用語V1.0, 19981010, 初版, p.52、53

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