キャピラリープレート、その製造方法、ガス比例計数管、及び撮像システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 塩田辰也 , 寺崎史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-030797
公開番号（公開出願番号）：特開2004-241298
出願日： 2003年02月07日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】ノイズレベルを十分に低減してS/N比を向上でき、高感度且つ安定な測定を実現できる撮像システム等を提供する。【解決手段】撮像型X線検出装置200は、撮像系210に電源系34及び制御系35が接続されて成っている。撮像系210は、ベリリウム窓21を有し且つ鉛不含ソーダ石灰ガラスから成るキャピラリープレート1が設けられたチャンバ22の後段に、CMOSセンサアレイ3が収容されたチャンバ23がFOP2を介して接合されたものである。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

複数の貫通孔が設けられたガラス基体を有しており、主として不活性ガスを含むガス雰囲気中に配置されて比例計数管を構成するキャピラリープレートであって、前記ガラス基体が鉛不含ソーダ石灰ガラスで形成されたものである、キャピラリープレート。

IPC (4件)：

H01J47/06 , G01T1/18 , G01T1/205 , H01L31/09

FI (5件)：

H01J47/06 , G01T1/18 A , G01T1/18 D , G01T1/205 , H01L31/00 A

Fターム (23件)：

2G088FF02 , 2G088FF10 , 2G088GG03 , 2G088GG19 , 2G088GG21 , 2G088JJ01 , 2G088JJ05 , 2G088JJ32 , 2G088JJ37 , 2G088KK32 , 2G088KK33 , 2G088MM04 , 5C038DD08 , 5C038DD09 , 5C038DD13 , 5C038DD15 , 5F088AA09 , 5F088BA03 , 5F088BB03 , 5F088EA04 , 5F088JA20 , 5F088LA07 , 5F088LA08

引用特許：

審査官引用 (5件)

比例マイクロカウンタを有する電離放射線検出器
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-518325 出願人：サントルナショナルドゥラルシエルシュシアンティフィック
マイクロチャンネルプレート製造用可溶性コアガラス
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-088328 出願人：ホーヤ株式会社
特開昭54-043869

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