特許
J-GLOBAL ID：200903059246184216
フォトマスクブランクス及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-391492
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195482
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【解決手段】 膜形成面上に付着する直径が0.1μm以上の異物の数が、200cm2あたり100個以下である合成石英基板上に遮光膜又は位相シフト膜を形成してなるフォトマスクブランクス。【効果】 本発明によれば、酸化物からなる研磨材で研磨した合成石英基板をアルカリで処理することにより、基板表面上に付着した研磨材を基板上で凝集させることなく除去でき、更にフッ酸を使用して洗浄することによりアルカリによるリンスで除去しきれなかった研磨材を除去することができる。それぞれ低濃度の溶液を用いて短時間で処理が可能となるため、基板の腐食を起こさずに、効率的に研磨材の除去が可能となる。また、洗浄は常温で行われるため装置の低価格化が望め、廃液処理も容易となるので、設備費や洗浄処理コストの改善を図ることができ、低コストで高品質なフォトマスクブランクスを得ることができる。
請求項（抜粋）：
膜形成面上に付着する直径が0.1μm以上の異物の数が、200cm2あたり100個以下である合成石英基板上に遮光膜又は位相シフト膜を形成してなるフォトマスクブランクス。
IPC (6件)：
G03F 1/08
, B08B 3/08
, C03C 15/00
, C03C 17/09
, C03C 19/00
, G03F 1/14
G03F 1/08 X
, B08B 3/08 Z
, C03C 15/00 E
, C03C 17/09
, C03C 19/00 Z
, G03F 1/14 A
2H095BB03
, 3B201AA47
, 3B201BB22
, 3B201BB72
, 3B201BB93
, 3B201BB95
, 3B201BB98
, 3B201CD22
, 4G059AA08
, 4G059AB01
, 4G059AB03
, 4G059AB09
, 4G059AB11
, 4G059AC03
, 4G059AC05
, 4G059BB16
, 4G059DA07
, 4G059DB02
