特許
J-GLOBAL ID:200903059369736906

光磁気記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-165003
公開番号(公開出願番号):特開2000-353344
出願日: 1999年06月11日
公開日(公表日): 2000年12月19日
要約:
【要約】【課題】 記録層により微小な磁区を安定に記録することが可能となる光磁気記録媒体を得る。【解決手段】 レーザー光照射によって作られた温度勾配により磁壁の移動が生じる膜面に垂直な方向に磁化容易軸を持つ第一の磁性層3と,室温に於いて安定に記録マークが存在するに充分な保磁力を有し,レーザー光照射による熱と外部磁界によって記録の行われる膜面に垂直な方向に磁化容易軸を持つ第三の磁性層5と,前記第一の磁性層3および第三の磁性層5間の交換相互作用を制御する第二の磁性層4とを有してなる光磁気記録媒体10に於いて、前記第三の磁性層5をArガス圧力7.5mTorr以上で成膜することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
請求項(抜粋):
レーザー光照射によって作られた温度勾配により磁壁の移動が生じる膜面に垂直な方向に磁化容易軸を持つ第一の磁性層と,室温に於いて安定に記録マークが存在するに充分な保磁力を有し,レーザー光照射による熱と外部磁界によって記録の行われる膜面に垂直な方向に磁化容易軸を持つ第三の磁性層と,前記第一および第三の磁性層の間の交換相互作用を制御する第二の磁性層とを有してなる光磁気記録媒体に於いて、前記第三の磁性層をArガス圧力7.5mTorr以上で成膜することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件):
G11B 11/10 541 ,  G11B 11/10 506
FI (2件):
G11B 11/10 541 B ,  G11B 11/10 506 A
Fターム (4件):
5D075FF13 ,  5D075GG03 ,  5D075GG12 ,  5D075GG16
引用特許:
審査官引用 (5件)
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