特許
J-GLOBAL ID：200903059507299440
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-174447
公開番号（公開出願番号）：特開2009-016453
出願日： 2007年07月02日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：
【課題】プラズマ生成室で生成されたプラズマから発生する紫外光と水素イオンを遮蔽して水素ラジカルのみを処理室に供給できるとともに,金属原子や板状部材を構成する材料が飛散して処理室内に入り込むことを防止しながらも,的確に水素イオンを捕獲する。【解決手段】プラズマ生成室104と処理室102との間にこれらを隔てる隔壁部材140を設け,隔壁部材は,2枚の板状部材142,144をそれぞれ間隔を開けて重ね合わせた構成とし,各板状部材にはそれぞれ,水素ラジカルを通す複数の貫通孔142a,144aを形成し,各板状部材の貫通孔はそれぞれ,他の板状部材の貫通孔と互いに重ならないようにずらして配置し,板状部材はすべて紫外光を透過しない絶縁部材料で構成した。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水素を含む処理ガスをプラズマ励起させて発生した水素ラジカルを用いて被処理基板に対して所定の処理を施すプラズマ処理装置であって,
前記処理ガスを励起させてプラズマを生成するプラズマ生成室と,
前記プラズマ生成室に連通する処理室と,
前記処理室内に配置され,前記被処理基板を載置する載置台と,
前記プラズマ生成室と前記処理室を隔てる隔壁部材と,を備え,
前記隔壁部材は,複数の板状部材をそれぞれ間隔を開けて重ね合わせた構成とし,
前記各板状部材にはそれぞれ,前記水素ラジカルを通す複数の貫通孔を形成し,
前記各板状部材の貫通孔はそれぞれ,他の板状部材の貫通孔と互いに重ならないようにずらして配置し,
前記板状部材はすべて,紫外光を透過しない絶縁部材料で構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H01L21/302 101C
, H01L21/302 104H
, H01L21/302 301Z
5F004AA06
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB29
, 5F004BC03
, 5F004BD01
, 5F004DA00
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA24
, 5F004DB26
出願人引用 (3件)
審査官引用 (8件)
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