特許
J-GLOBAL ID：200903059761624458

有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法

発明者：
中川 創太

中川 創太 について

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田中 俊博

田中 俊博 について

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葛 甬生

葛 甬生 について

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佐久間 博司

佐久間 博司 について

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伊藤 三郎

伊藤 三郎 について

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池口 学

池口 学 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-190136
公開番号（公開出願番号）：特開平11-033569
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：
【要約】【課題】 有機塩素化合物を含有する汚水の処理を紫外線または紫外線及び酸化剤を用いて行う処理方法において、紫外線照射の効率を上げて、従来より高度な処理を効率良く行うことを可能とし、処理コストを低減できる処理方法を提供すること。【解決手段】 有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで(A)紫外線、(B)紫外線及びオゾン含有気体、(C)紫外線及び過酸化水素、又は(D)紫外線、オゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
請求項（抜粋）：
有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで(A)紫外線、(B)紫外線及びオゾン含有気体、(C)紫外線及び過酸化水素、又は(D)紫外線、オゾン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
IPC (6件)：
C02F 1/78 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/72 101
FI (6件)：
C02F 1/78 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 1/72 101
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (11件)
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