特許
J-GLOBAL ID：200903059850874077

窒化珪素薄膜およびその製造方法

発明者：
市村 公二

市村 公二 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 米田 潤三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011841
公開番号（公開出願番号）：特開2000-212747
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：
【要約】【課題】 耐摩耗性、耐熱性、耐衝撃性、耐蝕性等の耐久性、絶縁性、透明性に優れる窒化珪素薄膜とその製造方法を提供する。【解決手段】 窒化珪素薄膜を、シラザン化合物を用いて化学気相蒸着(CVD)法によって基材上に成膜した薄膜とする。
請求項（抜粋）：
基材上に、シラザン化合物を用いて化学気相蒸着(CVD)法により成膜した窒化珪素からなる薄膜であることを特徴とする窒化珪素薄膜。
Fターム (8件)：
4K030AA05 ,  4K030AA18 ,  4K030BA40 ,  4K030FA01 ,  4K030FA07 ,  4K030FA08 ,  4K030LA02 ,  4K030LA24
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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