試料測定装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-207233
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033231
出願日： 1999年07月22日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、自動的に半導体ウェハの多点測定を行うのに好適な自動測定装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】パターンマッチングに供される参照画像の特定部分と、試料の拡大像の特定部分の形状の形状合わせを行う手段と、或る測定単位毎、及び/又は前記拡大像の特定部分の形状と前記試料像の特定部分の形状の一致度が或るしきい値を外れた際に、参照画像を更新する。

請求項（抜粋）：

測定対象物の拡大像を得る画像取得手段と、試料像を記憶する画像記憶手段と、当該画像記憶手段に記憶された試料像の特定部分の形状と、前記画像取得手段によって得られた拡大像の特定部分の形状の形状合わせを行う手段と、或る測定単位毎、及び/又は前記拡大像の特定部分の形状と前記試料像の特定部分の形状の一致度が或るしきい値を外れた際に、前記画像取得手段で得られた拡大像を前記画像記憶手段に記憶させる手段を備えたことを特徴とする試料測定装置。

IPC (6件)：

G01B 15/04 , G06T 7/00 , H01J 37/22 502 , H01L 21/027 , H01L 21/66 , G01B 11/24

FI (7件)：

G01B 15/04 , H01J 37/22 502 H , H01L 21/66 J , G06F 15/62 405 C , G06F 15/70 455 A , H01L 21/30 502 V , G01B 11/24 K

Fターム (55件)：

2F065AA56 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065FF41 , 2F065GG04 , 2F065GG12 , 2F065HH04 , 2F065MM16 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2F065QQ04 , 2F065QQ24 , 2F065QQ38 , 2F065QQ41 , 2F065RR02 , 2F065SS13 , 2F067AA03 , 2F067AA15 , 2F067AA54 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067EE10 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL16 , 2F067QQ02 , 2F067RR30 , 2F067RR40 , 2F067SS12 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA02 , 4M106CA39 , 4M106DB05 , 4M106DB21 , 4M106DJ14 , 4M106DJ21 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DC33 , 5B057DC39 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096BA18 , 5L096CA18 , 5L096HA08 , 5L096JA03 , 5L096KA04 , 5L096KA15

引用特許：

審査官引用 (7件)

ウエハパターン検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-109191 出願人：日本電装株式会社
特開平3-177040
画像認識装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-216486 出願人：東芝メカトロニクス株式会社

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