特許
J-GLOBAL ID:200903059895962384
ジケトピロロピロール系ポリマーおよびその形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-228384
公開番号(公開出願番号):特開2009-062537
出願日: 2008年09月05日
公開日(公表日): 2009年03月26日
要約:
【課題】電荷キャリア移動度が高く、かつ半導体層の空気安定度が改良されたデバイスの作成に好適なポリマーを提供する。【解決手段】下式で表される構造を有するポリマー。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下式で表される構造を有するポリマー。
IPC (5件):
C08G 61/12
, H01L 51/05
, H01L 51/30
, H01L 51/40
, H01L 29/786
FI (5件):
C08G61/12
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 250G
, H01L29/28 310J
, H01L29/78 618B
Fターム (42件):
4J032BA05
, 4J032BA14
, 4J032BA15
, 4J032BA20
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032BD07
, 4J032CG01
, 5F110AA01
, 5F110AA16
, 5F110BB01
, 5F110BB09
, 5F110BB10
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD05
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE07
, 5F110EE08
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF05
, 5F110FF23
, 5F110GG05
, 5F110GG06
, 5F110GG25
, 5F110GG28
, 5F110GG29
, 5F110GG42
, 5F110GG57
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK32
, 5F110HK42
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
米国特許出願公開第2007/0112171号広報
-
米国特許出願公開第2007/0160847号広報
-
米国特許出願公開第2007/0148812号広報
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る