特許
J-GLOBAL ID：200903059926650769

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
西山 文之

西山 文之 について

, 
藤森 亨

藤森 亨 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-364904
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183837
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】 ラインエッジラフネス、マイクログレインが改善され、更に製膜均一性が優れ、レジスト液中のパーティクルが少ない遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することを提供すること。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(イ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(ロ)ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びに(ハ)(1)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、(2)プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (13件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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